氣硅光油高剪切研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。
氣硅光油高剪切研磨分散機
二氧化硅高速分散機 , 樹脂高速分散機和氣硅高速分散機,消光粉高速分散機是 是指將不溶固體顆粒分散到液體中在液體介質中的分散體系。在分散過程中,往往需要減小固體顆粒,這就是濕磨或高剪切分散。
光油是一種合成樹脂,現通常是指表面透明清漆,有基料和助劑等做成,不加任何顏料,成膜后油光發亮,俗稱叫清漆,有UV光油與PU光油之分。
測試工藝
步驟一:反應釜1中配好樹脂和氣硅,然后使用齒輪泵的吸力(流量可調)使物料通過分散器,打到反應釜2,期間檢測反應釜2中物料的分散情況是否達標。
期間測試多高的轉速能分散氣硅。
步驟二:反應釜2中加入消光粉,使用較低轉速的分散能力,達到消光粉能分散但又不被分散得太細降低消光效果的程度。
期間測試多高的轉速達到合適的分散效果。
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XMD2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XMD2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XMD2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
XMD2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
XMD2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
XMD2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
氣硅光油高剪切研磨分散機